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真空鍍膜基礎(chǔ)知識

電阻蒸發(fā)源蒸鍍法

采用鉭，鉬，鎢等高熔點金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓氣流通過，對蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入氧化鋁，氧化鈹?shù)熔徨佒羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā)，這就是電阻加熱蒸發(fā)法。

利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)簡單，造價便宜，使用可靠，可用于熔點不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對鍍膜質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中，迄今為止，在鍍鋁制鏡的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。

電阻加熱方式的缺點是：加熱所能達(dá)到的高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了提高加熱器的壽命，國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為加熱器。據(jù)日本報道，可采用20％～30％的氮化硼和能與其相熔的耐火材料所組成的材料來制作坩鍋，并在表面涂上一層含62％～82％的鋯，其余為鋯硅合金材料。

真空鍍膜系統(tǒng)

真空室

涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機(jī)兩種形式，不銹鋼材料制造、弧焊接、表面進(jìn)行化學(xué)拋光處理，真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口。

真空獲得部分

在真空技術(shù)中，真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設(shè)備和方法所能達(dá)到的，必須將幾種泵聯(lián)合使用，如機(jī)械泵、羅茨泵、分子泵系統(tǒng)等。

真空測量部分

真空系統(tǒng)的真空測量部分，就是要對真空室內(nèi)的壓強(qiáng)進(jìn)行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計能測量整個真空范圍，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計。如熱偶計，電離計，皮拉尼計等。

電源供給部分

靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈沖電源、射頻電源(RF)，常見的電源廠商有AE，ADL，霍廷格等。

真空鍍膜系統(tǒng)

電子束蒸發(fā)源蒸鍍法

將蒸發(fā)材料放入水坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面成膜，是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點，特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。

依靠電子束轟擊蒸發(fā)的真空蒸鍍技術(shù)，根據(jù)電子束蒸發(fā)源的形式不同，又可分為環(huán)形，直，e型和空心陰極電子等幾種。

環(huán)形是由環(huán)形的陰極來發(fā)射電子束，經(jīng)聚焦和偏轉(zhuǎn)后打在坩鍋內(nèi)使金屬材料蒸發(fā)。它的結(jié)構(gòu)較簡單，真空鍍膜系統(tǒng)生產(chǎn)廠家，但是功率和效率都不高，基本上只是一種實驗室用的設(shè)備，目前在生產(chǎn)型的裝置中已經(jīng)不再使用。

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